|
公司基本資料信息
|
一、工藝特點 1、陰極電流效率22~27%,沉積速度快,節(jié)省電能。2、不含氟化物,不腐蝕陰極低電流密度區(qū)之工件底材。3、不腐蝕陽極4、鍍層光亮細致、與基體結合牢固。5、鍍層硬度可高達HV1100。6、鍍層微裂紋數(shù)達400條/厘米以上,具有高耐蝕性。7、鍍層平滑、厚度均勻,分散能力強。8、工藝穩(wěn)定,維護簡單,便于操作,直接轉換!二、工藝規(guī)范 工藝參數(shù)成 份工 藝 范 圍最 佳 值鉻酸150~300克/升250克/升硫酸1.5~3.5克/升2.5克/升HY-28~12毫升/升10毫升/升溫度45℃~65℃60℃陰極電流密度20~70安培/平方米60安培/平方米陽、陰極比例>1.52鉻酸:硫酸100:0.8~1.4100:1.2三、鍍液的配制 1、鍍槽中加入60%體積之去離子水。2、按工藝規(guī)范加入所需數(shù)量的鉻酸、硫酸和HY-2催化劑,充分攪拌。3、添加去離子水至所需體積。4、加溫至58℃~63℃,電解4~6小時即可使用。 四、設備 鍍槽:鐵槽內襯SPVC或橡膠,及其它認可材料。 陽極:含錫7~13%(重量)之鉛錫合金。整流器:紋波系數(shù)須控制在5%以內。溫控裝置:熱交換器采用鈦質或聚四氟乙烯及其它認可材料。五、前處理與鍍液的轉化HY-2鍍鉻工藝前處理與普通鍍鉻一樣,無其它特殊要求。鍍液轉化:普通鍍鉻轉化為HY-2鍍鉻工藝,只須將鍍液樣品交本公司化驗,確認以往添加劑不含氟化物,無機金屬雜質不超過7克/升,按補加量加入HY-2催化劑,電解兩小時即可生產。六、鍍液的補充消耗量:按照鉻酐與HY-2催化劑比例50:1添加(任選一項),維持鍍液之鉻酐濃度即可。