一、應(yīng)用領(lǐng)域

石英石墨干鍋太陽(yáng)能硅片清洗、拉晶切片用水、硅材料清洗用水、制取電子工業(yè)生產(chǎn)如單晶硅、半導(dǎo)體、集成電路塊、IC芯片封裝、顯象管、玻殼、液晶顯示器、光學(xué)、光電、熱電廠、冶金、化工等

二、工藝流程

1、一級(jí)反滲透+混床（出水2---15mΩ.cm）

原水箱—原水泵—全自動(dòng)全自動(dòng)多介質(zhì)過(guò)濾器—全自動(dòng)活性炭過(guò)濾器—全自動(dòng)軟水器→保安過(guò)濾器→高壓泵—反滲透主機(jī)→純水箱—純水泵→陰陽(yáng)離子交換混床→微孔過(guò)濾器—儲(chǔ)水罐→純水輸送泵→用水點(diǎn)

2、一級(jí)反滲透+EDI系統(tǒng)（出水5---15mΩ.cm）

原水箱→原水泵→全自動(dòng)多介質(zhì)過(guò)濾器→全自動(dòng)活性炭過(guò)濾器→全自動(dòng)軟水器→保安過(guò)濾器→高壓泵→反滲透主機(jī)→純水箱—EDI系統(tǒng)→儲(chǔ)水罐→純水輸送泵→用水點(diǎn)

3、二級(jí)反滲透+EDI系統(tǒng)（出水18mΩ.cm）

原水箱—原水泵→全自動(dòng)多介質(zhì)過(guò)濾器→全自動(dòng)活性炭過(guò)濾器→全自動(dòng)軟水器→保安過(guò)濾器→一級(jí)高壓泵→級(jí)反滲透主機(jī)→PH調(diào)節(jié)→二級(jí)級(jí)高壓泵→二級(jí)反滲透→純水箱→脫氣裝置→微孔過(guò)濾器→EDI系統(tǒng)→拋光混床系統(tǒng)—儲(chǔ)水罐→純水輸送泵→用水點(diǎn)

三、出水標(biāo)準(zhǔn)

符合美國(guó)ASTM標(biāo)準(zhǔn)、符合《中國(guó)電子行業(yè)超純水國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)》GB/T1146.1-1997

（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）

四、訂貨須知

具體的設(shè)備處理量、出水標(biāo)準(zhǔn)、設(shè)備材質(zhì)、尺寸及電器控制等，我公司將會(huì)提供給您詳細(xì)的方案說(shuō)明。

溫馨提示：水處理設(shè)備的要求需要了解幾點(diǎn)內(nèi)容：

1、純水的產(chǎn)水量（按每小時(shí)計(jì)算）

2、純水要求的水質(zhì)（例如多少兆歐）

3、原水進(jìn)水水質(zhì)是什么水（例如自來(lái)水，地表水，深井水）

4、制作純水的工藝（工藝不一樣價(jià)格也不一樣）

5、用于生產(chǎn)什么產(chǎn)品（例如電池片，蓄電池，玻璃行業(yè)，化妝品行業(yè)，化工行業(yè)等）

6、配置的品牌及控制方式（PLC自動(dòng)控制，手動(dòng)控制）型號(hào)和數(shù)量等。